鎳鉻合金在真空鍍膜行業也應用較廣，可以做成一定比例的合金靶材，作磁控濺射鍍膜的原材料
當Ni元素的原子含量在20％70％時，均勻化熱處理在1200-1300℃之間比較適宜，而均勻化退火時間隨退火溫度的選取高低而不同，在2～24h的范圍內變動?；陔S機級聯碰撞理論和蒙特卡洛方法，對離子束濺射中入射離子與M-Cr系合金靶材固體之間的相互作用進行模擬的結果表明，由于Ni和Cr的原子表面能較為接近，M-Cr系合金靶材的濺射產物成分與靶材成分不發生明顯偏差，有利于靶材成分的選擇和薄膜成分的控制
鎳鉻合金薄膜的3種制備方法:真空蒸發沉積、磁控濺射沉積和離子束沉積;討論了基底、工作氣壓、沉積時間等薄膜制備工藝參數以及退火工藝對薄膜性能的影響。
鎳鉻合金靶材----常用于切削工具；用噴鍍、沉積和高溫擴散等方法在鋼或鐵的表面形成抗腐蝕合金層；和是**合成和石油工業中的強氧化劑；鉻黃、鉻橙、鉻綠等可用作無機顏料
Ni-Cr系合金靶材在濺射鍍膜工業中應用廣泛，結合材料計算模擬和少量關鍵實驗，定量化地研究了M-Cr系合金材料在熱處理過程的相結構、相轉變和顯微組織特征，以及離子束濺射中入射離子與Ni-Cr系合金靶材固體之間的相互作用
目前,市場上存在大量已經濺射過的廢舊高純鎳鉻合金靶材,為了變廢為寶,地利用現有資源,將廢舊鎳鉻合金靶材作為原材料全返回真空冶煉,可大大降低生產成本,增強產品的競爭力
高電阻電熱合金（高鎳及鐵鉻鋁）、高溫合金、精密合金、耐熱合金、特種合金、不銹鋼等都是常見和常用的鎳鉻合金.
鎳鉻合金薄膜是重要的精密電阻和應變電阻薄膜材料
鎳鉻合金電阻薄膜具有高電阻率、低電阻溫度系數、較高的靈敏系數且對溫度依賴小等特點,一直受人們青睞.由于鎳鉻合金電阻薄膜制備容易、工藝成熟、性能穩定,因而得到廣泛應用,主要用于制備混合集成電路中的精密電阻薄膜.其能滿足電阻應變計敏感薄膜的性能要求,因此常用于制備薄膜電阻應變計
在長度，橫截面積一定時，溫度越低，鎳鉻合金的電阻越大，這與一般的規律是相反的
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